水环式真空泵一般工艺中的应用
2020-12-23 21:45 点击：
水环式真空泵一般工艺中的应用(1)N2清洗 N2清洗的目的是稀释真空泵内部的反应气体;水环式真空泵为泵的转轴提供密封;防止真空泵排气口渗入空气及水分N2清洗的气体量可根据需要调整。(2)配冷阱 冷阱通常是装在真空泵的吸气口及排气口位置,目的是减少反应生成物渗入到泵的量,减轻真空泵的负担;减轻废气处理的负担。
温度控制根据工艺过程反应生成物的不同,为防止其附着在泵内,对无油机械真空的排气口机矽烷系统(TEOS)原料呈液体状态,TEOS与反应副产物混合,形成凝胶状而堵塞真空泵排气口,这时在排气口应加冷阱。利用PECVD工艺制备绝缘膜时,TEOS的反应副产物以白色粉末状通过真空泵,因此应选用非接触型真空泵。清洗气体使用NF3,C2F6,ClF3等与上述反应副产物结合,再形成另一种副产物,对真空泵有不良影响,此时可利用降低真空泵温度的方法解决。
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